机械设备行业：开源证券-机械设备行业深度报告：薄膜沉积，先进逻辑/存储产线国产化空间广阔，国产厂商加速补齐短板环节-241010

- 薄膜沉积设备在半导体晶圆制造中占据重要地位，市场空间广阔且增长迅速，预计2023年全球市场规模达到184.35亿美元。

- 目前国产化率约23.4%，未来有望提升至65%，国产厂商如中微公司、北方华创和拓荆科技在高端设备领域具备竞争优势。

- 行业内存在较大国产替代空间，特别是在先进逻辑和DRAM产线，投资者应关注相关企业的发展潜力及市场动态。

### 投资报告核心要点总结 1. **市场概况**： - 2023年全球薄膜沉积设备市场规模约184.35亿美元，国内市场约444.56亿元。

- 从2013年至2023年，全球市场年均增速为14.47%，预计未来增速将继续高于整体半导体设备市场。

2. **国产化现状**： - 3D NAND薄膜沉积设备的国产化率较高，但先进逻辑设备的国产替代空间仍然较大。

- 预计国内先进逻辑/DRAM产线的薄膜沉积设备国产化率低于3D NAND。

3. **主要设备类型及市场份额**： - PECVD设备占3D NAND薄膜沉积市场的35%。

- ALD和CVD钨设备合计占15%。

- 逻辑器件制造中，PECVD设备用于沉积SiO2、SiN等介质材料，ALD设备用于沉积HKMG结构等。

4. **行业竞争格局**： - 全球薄膜沉积市场高度集中，Applied Materials是市场领导者，Novellus曾为第二大厂商。

- 主要竞争优势在于工艺创新和设备产能。

5. **国产厂商发展**： - 2023年国产化率约23.4%，预计到2030年将提升至65%，对应356亿元的营收增量。

- 主要国产厂商包括中微公司、北方华创和拓荆科技，各自专注于不同高端设备市场。

6. **风险提示**： - 国内先进晶圆厂扩产及产线国产化率提升不及预期可能影响市场发展。

### 受益标的： - 中微公司 - 北方华创 - 拓荆科技

投资标的及推荐理由如下： 1. **中微公司** - **推荐理由**：中微公司重点布局高端导体LPCVD（低压化学气相沉积）、Thermal ALD（热原子层沉积）以及EPI（外延生长）设备市场，具备技术优势和市场潜力，适应未来半导体行业的发展需求。

2. **北方华创** - **推荐理由**：北方华创以PVD（物理气相沉积）为基础，加速拓展CVD（化学气相沉积）和ALD设备，具有较强的市场拓展能力和技术积累，能够参与到国产化进程中。

3. **拓荆科技** - **推荐理由**：拓荆科技在PECVD介质、HDPCVD（高密度等离子体化学气相沉积）和SACVD（选择性化学气相沉积）领域保持领先地位，并加速新型反应腔的开发，能够满足日益增长的市场需求。

4. **微导纳米** - **推荐理由**：微导纳米继续深耕更先进制程节点的ALD设备，适应高端市场需求，具备良好的发展前景。

这些公司在薄膜沉积设备领域各有优势，能够在未来的市场中受益于国产化率提升和行业增长。