- 光刻机是半导体制造中技术壁垒最高、成本占比最大的关键设备,市场主要被ASML、尼康、佳能等外企垄断。
- 国内光刻机研发进展迅速,上海微电子和长光所等企业在国产替代方面具备广阔空间,尤其在i-line和Krf设备上。
- 投资者应关注光刻机产业链相关上市公司,特别是光源系统和光学系统领域的企业,市场潜力巨大,但需警惕技术和产业化进展的不确定性。
核心要点2本周的投资报告聚焦于光刻机及其在半导体技术中的重要性。
光刻工艺是集成电路制造的关键环节,涉及多个复杂步骤,费用占制造成本的约三分之一。
光刻机被誉为“超精密尖端装备的珠穆朗玛峰”,其市场主要被ASML、尼康和佳能等海外厂商垄断。
国内厂商如上海微电子和长光所正在积极研发光刻机,国产替代市场潜力巨大。
目前,紫外光刻机已实现国产化,深紫外光刻机正在推进,而极紫外光刻机仍在技术探索阶段。
中国大陆地区预计在2024年占ASML销售额的36%。
随着国内半导体设备市场的快速增长,光刻设备的市场规模也在扩大。
投资建议方面,建议关注光刻机产业链相关上市公司,特别是光源系统和照明系统等环节的企业。
风险提示包括技术突破和产业化进展不及预期,以及晶圆厂资本开支的波动。
投资标的及推荐理由投资标的包括:合锻智能、灿勤科技、茂莱光学、波长光电、奕瑞科技、福晶科技、炬光科技、永新光学、汇成真空。
推荐理由: 1. 光刻机是半导体制造中最核心、最复杂的工艺步骤,市场对光刻机的需求持续增长,尤其是高端EUV和DUV光刻机市场规模不断提升。
2. 国内光刻机市场存在广阔的国产替代空间,随着国产化进程的推进,相关企业有望受益。
3. 光刻机的核心零部件替换和更新对存量光刻产能具有重要保障作用,若能在关键领域实现突破,将打开市场空间。
4. 投资建议关注光刻机产业链相关零部件上市公司,尤其是在光源系统、照明系统和投影物镜环节的企业。